Установка ЭМ-5026М1 совмещения и экспонирования, Минск

Цена: Цену уточняйте
за 1 ед.

Описание товара

Установка ЭМ-5026М1 предназначена для совмещения изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине (подложке) и переноса изображения с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины (подложки).

Установка ЭМ-5026М1 имеет автоматические системы:

  • компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном,

  • выхода на заданный оператором зазор совмещения,

  • экспонирования фоторезиста на пластине,

  • перехода в режим энергосбережения.

Загрузка - выгрузка полупроводниковых пластин (подложек) на рабочий столик осуществляется оператором вручную.

Технические характеристики установки

Диапазоны рабочих длин волн, нм
225-260, 280-335*, 350-450*
Фотолитографическое разрешение, мкм
0,4...0,6
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм, %

±2

Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм
±0,1
Диаметр обрабатываемых пластин, мм
76 (16,20,25,30,40, 50,60)*
Размер фотошаблонов, мм
76 х76*, 102 х102
Чувствительность привода манипулятора совмещения
по X, Y, мкм
по углу, секунд
0,01
0,1
Потребляемая мощность, не более, кВт
800

Характеристики установки ЭМ-5026М1 совмещения и экспонирования

  • — Страна производитель: Беларусь

Обращаем ваше внимание на то, что торговая площадка BizOrg.su носит исключительно информационный характер и ни при каких условиях не является публичной офертой.
Заявленная компанией КБТЭМ-ОМО, ОАО цена товара «Установка ЭМ-5026М1 совмещения и экспонирования» может не быть окончательной ценой продажи. Для получения подробной информации о наличии и стоимости указанных товаров и услуг, пожалуйста, свяжитесь с представителями компании КБТЭМ-ОМО, ОАО по указанным телефону или адресу электронной почты.
Установка ЭМ-5026М1 совмещения и экспонирования