Установка вакуумная компактная шлюзовая Aspira 200, Минск

Отличительными особенностями вакуумной установки Аспира 200 являются:

• Максимальный размер зоны нанесения - Ø200мм, максимальная высота подложки - до 30мм;
• Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
• Гибкость в выборе технологических устройств: ионный луч, магнетрон, электронный луч с ионным ассистированием, источник плазмы с ВЧ-нейтрализатором, ионная очистка перед стартом напыления;
• Одноволновой либо спектральный оптический контроль «на пропускание»;
• Шлюзовая загрузка;
• Полная автоматизация процесса напыления;

Технические характеристики вакуумного оборудования Аспира 200 приведены в таблице

Производительность / загрузка
Подложкодержатель Ø200 мм
Откачные средства
- Турбомолекулярный насос (не менее 2200 л/сек);

- Криогенный насос (опционально);

- Сухой безмасляный насос (не менее 35 м3/час)

Предельный вакуум
Не хуже 2х10^-4 Па (в чистой камере без оснастки)
Технологические устройства
- Ионно-лучевой источник распыления кольцевого типа на основе ускорителя с анодным слоем, с четырехпозиционным мишенным узлом и термокомпенсатором ионного заряда;

- Ионно-лучевой источник очистки «Луч-140» с термокомпенсатором ионного заряда;

- Магнетрон Ø 80 мм, DC либо RF режим;

- ЭЛИ EVM-8 производства «Ferrotec» с 12-позиционным тиглем и максимальной мощностью 6 kW;

- Ионный источник ассистирования «Стрелок-2» с термокомпенсатором;

- ВЧ-нейтрализатор с источником плазмы.

Неравномерность покрытий
+/- 0.1% - для планетарного механизма подложкодержателя;

+/- 0.3% - для Ø 90 мм;

+/- 1.0% - для Ø 140 мм;

+/- 3.0% - для Ø 200 мм

Нагрев
- 2-х зонный ТЭН-овый с 2-мя независимыми термопарами;

- Ламповый нагрев (нижнее расположение) при использовании планетарного механизма подложкодержателя;

- Максимальная температура нагрева - 350°С (опционально до 500°С)

Точность поддержания температуры нагрева
±2°С
Контроль покрытий
- Одноволновой контроль InvisioM:

380-1100 нм, 380-1700 нм, 380-2600 нм, 200-1100 нм (УФ-исполнение)

- Спектральный контроль InvisioS(только для стандартного подложкодержателя):

380-740 нм, 380-1100 нм, 1000-1700 нм, 380-1700 нм

- Кварцевый контроль:

Inficon 6-ти позиционный.

Занимаемая площадь (с зоной обслуживания)
2400 х 3300 х 2300 мм (L x W х H).
Масса, не более
2000 кг

Характеристики установки вакуумной компактной шлюзовой Aspira 200

• — Страна производитель: Беларусь